精密仪器研究中心（英文名称：Precision Instrument Research Center，简写PIRC）依托yl23455永利官网、光学与电子信息学院、集成电路学院等单位，面向集成电路制造、原子级制造等先进制造过程中的在线测量检测需求，致力于计量测量、计算成像、计算光刻等基础理论与关键技术研究，并开展相应精密仪器设备研制与应用研究，特别是探索非接触、无损、高效的光学和极短波长测量检测技术，旨在实现制造过程和制造工艺的可操纵性、可预测性、可重复性和可扩展性。

精密仪器研究中心前期承担了科技部首批国家重大科学仪器设备开发专项、基金委重大仪器项目、国家科技重大专项等各类国家级重大、重点项目，先后研制出国内首台高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪，合作开发出我国首套集成电路膜厚及纳米结构关键尺寸在线测量装备，开发了国内首款全自主计算光刻OPC软件。相关成果已经实现成果转化和产业化，先后孵化了武汉颐光科技有限公司、武汉宇微光学软件有限公司两家高新技术企业。

精密仪器研究中心目前重点研究但也不局限于光学方法，如光谱椭偏测量、光学散射测量、相干衍射测量、极短波长（EUV、X射线）测量、超快光声测量等技术，以实现对纳米结构乃至原子级结构关键尺寸、套刻、线边粗糙度、线宽粗糙度、全三维形貌的高精高效测量以及颗粒、划痕、桥接、断线、空洞等缺陷的快速高灵敏度检测。

精密仪器研究中心目前也同时研究光学光刻（包括DUV光刻和EUV光刻）中的若干基础理论与关键技术问题，包括部分相干成像理论、三维掩模效应、光学临近校正、光源掩模优化、逆光刻技术、曲线掩模技术、光刻胶工艺、对准测量、调焦调平测量、波像差检测、偏振像差检测等。

中心主任：刘世元

中心人员：

刘世元、汤自荣、江   浩、夏   奇、陈修国、谷洪刚、王   健、刘佳敏、田   野、彭立华

联系人：

谷洪刚       邮箱：hongganggu@hust.edu.cn

尹际婕       邮箱：jijieyin@hust.edu.cn

办公地点：机械学院先进制造大楼东楼B313/B316